Barras conductoras de cobre de alta pureza para pulverización catódica (4N-6N)

Imagen destacada de los blancos de pulverización catódica de barras conductoras de cobre de alta pureza (4N-6N).

Breve descripción:

Especificaciones del producto
Nombre: Objetivo de pulverización catódica de barras colectoras de cobre de alta pureza
Norma: ASTM F68 (cobre electrónico libre de oxígeno), ASTM B115, pureza ≥99,99 % (4N-6N), conforme a RoHS, conforme a REACH
Material: C10100 (cobre OFHC), C10200 (cobre libre de oxígeno), cobre de alta pureza (4N/5N/6N)
Superficie: Mecanizada/pulida con precisión, Ra ≤0,5 μm, unión de indio opcional a la placa de soporte.
Longitud: 500 mm – 4000 mm
Ancho: 50 mm – 400 mm
Espesor: 5 mm – 30 mm
Características del producto: Ultra alta pureza con mínimas impurezas · Excelente conductividad eléctrica y térmica · Microestructura uniforme para una pulverización catódica estable · Alta utilización del material en la deposición de grandes áreas · Excelente uniformidad y adhesión de la película · Baja desgasificación y generación de partículas · Mayor vida útil del objetivo en procesos continuos
Campo de aplicación: Celdas solares de película delgada (CIGS, CdTe, perovskita), pantallas planas de gran superficie, recubrimientos de vidrio arquitectónico, recubrimientos para automoción y decoración, pantallas táctiles y electrónica flexible, capas barrera en embalaje, sistemas de deposición lineal a escala de investigación, líneas de producción PVD de alto rendimiento.

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Objetivo de pulverización catódica de barras conductoras de cobre de alta pureza: Declaración de proceso y garantía de calidad

Nuestros objetivos de barras conductoras de cobre están desarrollados específicamente para la deposición física de vapor en grandes superficies y volúmenes elevados, donde es fundamental lograr un recubrimiento uniforme en longitudes extensas.

Características clave del proceso

El proceso de fabricación emplea técnicas metalúrgicas y de mecanizado avanzadas para ofrecer un rendimiento constante:
●Material de partida: Como base se utilizan cátodos de cobre electrolítico de primera calidad con pureza ultra alta verificada.
●Refinación al vacío: Varias etapas de fusión al vacío eliminan las impurezas gaseosas y metálicas para alcanzar niveles de 4N a 6N.
●Fundición continua: La extrusión en caliente controlada o la fundición continua produce lingotes largos y densos con una estructura homogénea.
●Trabajo en caliente: El forjado y el laminado refinan el tamaño del grano y logran una densidad casi teórica máxima.
●Corte y mecanizado de precisión: El aserrado y fresado CNC crean dimensiones rectangulares precisas con caras paralelas.
●Preparación de la superficie: El pulido y el rectificado en varias etapas producen superficies de pulverización catódica limpias y sin defectos.
●Opciones de unión: Disponibles uniones de indio a baja temperatura o uniones elastoméricas a placas de soporte de acero inoxidable o molibdeno.
●Embalaje para salas blancas: La limpieza ultrasónica final y el sellado al vacío con doble bolsa garantizan una entrega libre de contaminación.

Sistema de control de calidad

● Trazabilidad completa desde la fuente del cátodo hasta el objetivo de la barra colectora terminada
● Se proporcionan certificados de materiales completos e informes de pruebas con cada unidad.
● Muestras de archivo conservadas durante ≥3 años para verificación independiente (SGS, BV, etc.)
● Inspección del 100% de los parámetros esenciales:
• Verificación de pureza (análisis GDMS/ICP; oxígeno típicamente <5 ppm)
• Prueba de densidad (≥99,5% teórico)
• Evaluación de la estructura granular (metalografía)
• Precisión dimensional (CMM; paralelismo ≤0,1 mm típico)
• Calidad y rugosidad de la superficie (perfilómetro + inspección en sala limpia)
● Las especificaciones internas superan los estándares ASTM F68. Características típicas: Conductividad térmica >395 W/m·K, comportamiento de pulverización catódica sin arco constante, altas tasas de deposición en sistemas de magnetrón.